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專注環(huán)境試驗(yàn)設(shè)備的研發(fā)與生產(chǎn)
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等離子體電解液的優(yōu)化及工藝參數(shù)影響 一、等離子體氧化電解液的優(yōu)化 對(duì)硅酸鈉－磷酸鈉混合體系電解液進(jìn)行對(duì)比優(yōu)化實(shí)驗(yàn)，以測(cè)得氧化時(shí)間內(nèi)起弧電壓，終止電壓，時(shí)間與電壓關(guān)系等參數(shù)以及陶瓷層厚度。多聚磷酸鈉Na3P5O10濃度恒定為15 g/l。 經(jīng)過大量嘗試性實(shí)驗(yàn)發(fā)現(xiàn)，當(dāng)Na2SiO3濃度從4 g/l變到10 g
鋁表面等離子體電解氧化陶瓷層的生長(zhǎng)特性 一、生長(zhǎng)特性研究實(shí)驗(yàn)過程 等離子體電解氧化陶瓷層的生長(zhǎng)特性研究中所使用的基體材料為片狀高純鋁(20 mm×10 mm×2 mm)，其化學(xué)成分為：Cu 0.005 wt.％，F(xiàn)e 0.003 wt.％，Si 0.0025wt.％，其余為鋁。實(shí)驗(yàn)前先對(duì)試樣進(jìn)行砂紙的逐級(jí)機(jī)械打磨，最后一級(jí)為1000＃
鋁表面等離子體電解氧化及強(qiáng)化行為 鋁在全世界有色金屬產(chǎn)量上超過了銅而位居首位，它的用途涉及到許多領(lǐng)域，大至國防、航天、電力、通訊等，小到普通生活用品。但是鋁的致命弱點(diǎn)是耐腐蝕和耐磨損能力差，在使用過程中極易受到損壞，大大的影響了工件的使用壽命。
等離子體電解沉積實(shí)驗(yàn)研究方法 一、相組成分析 將處理好的試樣擦洗烘干分組標(biāo)號(hào)，用日本理學(xué)D/MAX-rB型X-ray衍射儀進(jìn)行X-ray衍射分析。衍射條件為:陽極選用銅靶，掃描速度為2°/min，電子加速電壓為40 kv，電流為60 mA，得出XRD衍射圖，進(jìn)行峰值標(biāo)定，查出沉積層的相組成。 二、沉積層的
鹽霧噴霧系統(tǒng)基本工作原理與標(biāo)準(zhǔn)鹽霧環(huán)境箱 鹽霧噴霧系統(tǒng)基本工作原理與標(biāo)準(zhǔn)鹽霧環(huán)境箱相同： 酸性鹽霧腐蝕試驗(yàn)機(jī)環(huán)境的施加是鹽霧腐蝕試驗(yàn)機(jī)試驗(yàn)機(jī)的關(guān)鍵技術(shù)。設(shè)計(jì)環(huán)境施加系統(tǒng)時(shí)，在滿足技術(shù)指標(biāo)的同時(shí)，重點(diǎn)要解決密封問題，以避免鹽霧腐蝕試驗(yàn)機(jī)性氣體和鹽溶液鹽霧腐蝕試驗(yàn)機(jī)試驗(yàn)機(jī)并污染環(huán)境。酸
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